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等離子體去膠的影響因素干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環境中發生反應來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。溫度對去膠的影響就去膠速率和效果而言，溫度對去膠速率影響最大，溫度越高，反應腔內氧氣離子越活躍，化學反應越劇烈，去膠效果也越好，但是過高的加熱溫度，可能對其基底本身造成損傷，影響基板成品率，并且射頻本身...
20224-14
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Beonchip器官芯片在技術方面有哪些問題需要注意Beonchip器官芯片是一種采用微芯片制造方法制造的微流控細胞培養裝置。該裝置包括具有多細胞層結構、組織界面、物理化學微環境和人體血管循環的連續灌注室。它也可以被認為是一種細胞培養微工程設備，可以模擬和重建人體器官的生理功能。器官芯片技術目前還處在萌芽階段，仍有大量技術及產業化方面的問題需要解決:(1)開發更加適合細胞培養的新材料?，F有的芯片材料多為PDMS、聚碳酸酯等，它們具有良好的滲透性與生物相容性;因此在芯片細胞培養中廣泛使用，然而PDMS被證明能夠吸附疏水性小分子，...
20224-1
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等離子清洗機之五個問答事項等離子清洗機產生的等離子體可以破壞有機污染物的分子鏈，將分子結構中的元素與基體分離。分離出來的元素與等離子體中的自由基發生反應，分子重新結合形成無害氣體，排放出去，達到表面清潔的目的。等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效避免了液體清洗介質對被清洗物的二次污染。它廣泛應用于光學、光電子、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微流體等領域。1、等離子清洗機之等離子是什么東西？等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。...
20223-21
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數字PCR智能溫控儀在保養方面留意什么進入21世紀后，數字PCR智能溫控儀正朝著高精度、多功能、總線標準化、高可靠性及安全性、開發虛擬溫控器和網絡溫控器、研制單片測溫控溫系統等高科技的方向迅速發展。數字PCR智能溫控儀具有控溫精確度高、采集數據靈敏度好、數據直觀、設置操作方便等特點，并且使用壽命長，現在是越來越多的消費者的選擇?，F在已經廣泛使用在冰箱熱水器及家用空調溫度控制等方面。它關系到溫度控制器能否正常使用以及使用的壽命。所以在日常使用時，應定期對溫度控制器進行除塵。此外，在保養方面還應留意以下幾點：1.清潔...
20223-16
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高分子化合物的表面改性高分子化合物的表面改性實驗背景：通過合適的等離子工藝處理，可以去除材料表面的污染物并提升材料表面能，以此增強材料的鍵合能力以及與其它材料的復合能力。本實驗旨在通過等離子處理管材表面：(1)通過合適的等離子工藝處理，可以去除產品表面納米級的污染物，提供一個清潔的表面以利于后續工藝的進行；(2)等離子處理能夠提升材料的表面能，高的表面能有利于提升材料與其它材料的結合；(3)等離子表面處理后，可以提升材料的表面微粗糙度，減小表面應力。實驗平臺與配置：PM等離子處理系統，配置水平電極...
20223-4
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等離子清洗機處理樣品后的時效性等離子體表面處理時效性的討論等離子體改性后的材料表面微觀形貌及性能會隨著時間的推移發生衰減，具有一定的時效性。關于時效性的產生原理，認為可以用兩個模型來解釋時效性產生的原因，分別是極性基團翻轉模型和等離子體清理模型。前提是等離子體處理后在材料表面引入大量極性基團，而這些極性基團不穩定性，隨時間的推移會使材料內部翻轉，導致表面極基團數減少，產生時效性；后者主要是針對表面沒有極性基團的材料，等離子體處理主要是對材料表面進行“去污”，從而起到提高表面能，改善材料表面性能，但隨著時間...
202112-27
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微流控中關于PDMS關鍵工藝的討論微流控中關于PDMS關鍵工藝的討論氧等離子體對于PDMS的影響關于氧等離子體的作用等離子體表面處理是在等離子體狀態下，非聚合性氣體對高聚物材料表面作用的物理過程和化學過程，非聚合性氣體包括反應性氣體和非反應性氣體，它們對高聚物材料表面作用的機理也不相同。(1)反應性氣體：氧、氮是等離子體中常用的反應性氣體，高聚物材料在反應性氣體的等離子體作用下，材料表面結構發生變化，而且由于O2和N2的化學活性，可直接結合到大分子上，從而改變了高聚物材料的化學組分，如高聚物材料在含氧等離子體...
202112-27
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關于等離子放電條件的討論關于等離子體放電研究隨著對等離子體表面處理設備的進一步了解，我們也想嘗試對設備的工作原理和現象做一些介紹和演繹，希望能夠幫助到大家更好理解和掌握等離子技術。同時，對封閉式等離子體腔的氣體壓強、工作電壓、氣體成分之間的關系進行了分析，探索了一種封閉腔體內獲得高密度等離子體的方法01壓強變化對放電的影響從腔體內壓強變化的角度來看，當氣壓較低時，輝光放電光譜強度隨著腔體內氣壓的增加而增加，當真空腔內氣壓增加到一定程度時，出現拐點，光譜強度增加緩慢并出現下降趨勢，在140Pa左右光譜...
202112-27
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